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1200度箱式氣氛保護燒結(jié)爐

1200度箱式氣氛保護燒結(jié)爐的詳細介紹設(shè)備名稱箱式惰性氣氛保護爐型號AFD1200-30AFD1200-40AFD1200-50AFD1200-60基本參數(shù)電源電壓AC220V,50/60HzAC380V,50/60HzAC380V,50/60HzAC380V,50/60Hz外形尺寸（寬*深*高）845*755*1050mm1000*880*1300mm1140*1053*1485mm0000*0000*0000mm設(shè)備重量210Kg450Kg650Kg000Kg1200度箱...

1700℃管式爐Φ60/80

1700℃管式爐Φ60/80的詳細介紹設(shè)備名稱真空管式爐（封閉式）型號AFD1700-60AFD1700-60IIAFD1700-80AFD1700-80II基本參數(shù)電源電壓AC220V,50/60HzAC220V,50/60HzAC220V,50/60Hz外形尺寸1200*640*1580mm1200*640*1580mm設(shè)備重量175Kg175Kg1700℃管式爐加熱系統(tǒng)加熱功率4Kw4Kw8Kw加熱區(qū)300mm300mm300+300mm恒溫區(qū)120mm（&pl...

1200度200管徑管式爐（標準/雙溫區(qū)/三溫區(qū)）

1200℃管式爐Φ200(標準/雙溫區(qū)/三溫區(qū))的詳細介紹設(shè)備名稱200管徑管式爐（開啟式）型號AFD1200-200AFD1200-200IIAFD1200-200III基本參數(shù)電源電壓AC220V,50/60HzAC220V,50/60HzAC380V,50/60Hz外形尺寸（寬*深*高）1200*640*820mm1350*640*820mm1650*640*820mm設(shè)備重量115Kg135Kg160Kg管式爐加熱系統(tǒng)加熱功率6Kw8Kw12Kw加熱區(qū)440m...

箱式氣氛爐在行業(yè)中的應(yīng)用及主要部分

箱式氣氛爐在行業(yè)中的應(yīng)用“箱式氣氛爐”別名“氣氛爐、管式爐、電阻爐、井式爐、氫氣爐、鐘罩爐、鉬絲爐、升降爐等等”是種實驗設(shè)備,適用于金屬、納米、單晶硅、多晶硅、電池等的擴散焊接以及真空氣體保護下，氣氛熱處理的加熱設(shè)備鉬絲爐、箱式氣氛爐、井式氣氛爐、真空管式爐用于材料或化學(xué)實驗室，在真空或氣氛狀態(tài)下燒結(jié)各種新材料樣品。箱式氣氛爐適用于工礦企業(yè)、大專院校、科研院所及實驗室作真空或氣氛狀態(tài)下燒結(jié)各種新材料樣品用?？晒┗瘜W(xué)分析、物理測定以及金屬、陶瓷的燒結(jié)和熔解、小型鋼件等加熱、焙燒...

管式爐CVD原理供氣系統(tǒng)

管式爐CVD原理供氣系統(tǒng)CVD(ChemicalVaporDeposition）原理CVD(ChemicalVaporDeposition,化學(xué)氣相沉積），指把含有構(gòu)成薄膜元素的氣態(tài)反應(yīng)劑或液態(tài)反應(yīng)劑的蒸氣及反應(yīng)所需其它氣體引入反應(yīng)室，在襯底表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成薄膜的過程。在超大規(guī)模集成電路中很多薄膜都是采用CVD方法制備。經(jīng)過CVD處理后，表面處理膜密著性約提高30%，防止高強力鋼的彎曲，拉伸等成形時產(chǎn)生的刮痕。CVD特點淀積溫度低，薄膜成份易控，膜厚與淀積時間成正比，均勻...